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    半導體濕法清洗設備概況-富怡達超聲波清洗機

    0閱讀次數:2515發布日期:2022-08-10     作者:富怡達      關鍵詞:超聲波清洗機,噴淋清洗機   

    半導體濕法清洗設備概況

    半導體清洗作為芯片生產中最基本的環節貫穿硅片制造、晶圓制造、封裝始末。隨著技術節點的進步,清洗工序也愈加精細化,對清洗設備的需求也將相應增加。

    根據清洗介質不同,半導體清洗技術分為濕法清洗和干法清洗兩種工藝路線,其中濕法清洗為主流技術路線。

    所謂濕法清洗,指的是用溶液、酸堿、表面活性劑、水及其混合物,通過腐蝕、溶解、化學反應等方法,使硅片表面的雜質與溶劑發生化學反應生成可溶性物質、氣體或直接脫落,從而達到清潔硅片的目的。

    而具體到濕法清洗,又可以分為化學方法和物理方法兩個方向。

    化學方法主要通過將硅片浸入不同的化學藥劑從而達到清洗的目的,根據藥劑的不同又有RCA清洗、改進RCA清洗、臭氧清洗、IMEC清洗等多條分支。

    物理方法則是將化學藥劑與物理方法結合,通過機械刷洗法、超聲波/兆聲波清洗法、二流體清洗法、旋轉噴淋法等物理技術,對硅片進行全面清洗的過程。由于各大企業所用的藥液基本相同,其輔助的物理方法成為不同工藝的主要差別。


    總體而言,受到全球擴產潮影響,國產半導體設備景氣上行。全球半導體觀察對中國國際招標網數據的整理后發現,國內設備廠商在薄膜沉積、刻蝕、濕法清洗等環節上占據較大優勢,對應設備國產化率不斷提高。

    從開標數據看,2022 年上半年國內主要晶圓廠共開標765臺工藝設備,其中清洗設備86臺,數量排名第五。

    而結合中標數據看,2022 年上半年國內主要設備廠共中標379臺工藝設備,濕法清洗設備81臺,數量排名第一,中標較多廠商為均為國內半導體設備大廠。

    受益于全球擴產大潮,全球半導體濕法清洗設備業務步入高速成長期,我國龍頭企業業務也在近兩年迎來高速發展期。目前各大設備企業紛紛鉚足勁頭加速擴產,并加快技術研發,業界對清洗設備企業前景較為看好。

    富怡達
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