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    中國首片8英寸SiC晶圓,成功制造!富怡達超聲波清洗機專注于碳化硅材料清洗

    0閱讀次數(shù):2049發(fā)布日期:2023-06-06     作者:今日半導體、據(jù)電子時報、富怡達超聲波     關鍵詞:超聲波清洗機,噴淋清洗機

    據(jù)電子時報6月5日報道,富士康旗下的子公司成功制造出中國臺灣地區(qū)首片8英寸SiC(碳化硅)晶圓。由于SiC材料晶體生長難度大、材質硬導致切割困難,因此此前該公司僅有能力制造最大6英寸的SiC晶圓。

    由于半導體芯片的形狀為矩形,而晶圓為圓形,因此晶圓的面積越大,利用率越高,就能切割出更多的芯片。因此,不論是單晶硅還是碳化硅,使用大尺寸晶圓/襯底制造芯片,有助于芯片廠商降低成本。

    目前全球碳化硅產品比較緊缺,新能源電動汽車逐漸從IGBT轉向更高端的SiC MOSFET,增大了碳化硅芯片的需求。該領域眾多公司,都在積極尋求穩(wěn)定的SiC襯底供應來源。

    蘇州富怡達超聲波有限公司(SZFEAT)成立于2008年,是一家專業(yè)從事非標準工業(yè)自動化精密清洗裝備及清洗周邊設備研發(fā)、制造、營銷及服務于一體的國家高新技術企業(yè)。擁有10多年的精密清洗裝備研發(fā)、制造技術沉淀,20年的清洗裝備應用、維護經(jīng)驗;30多項專利,近1000家用戶,3000余臺精密清洗設備成功使用案例。

    富怡達超聲波精密清洗裝備主要應用于藍寶石(Al2O3)、硅(Si)、碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)、砷化鎵(GaAs)、氮化鋁(AlN)等襯底材料切割、研磨、拋光、貼片、退火前后、去蠟等工序間清洗。



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